脱去Tos基的方法有以下几种：

使用萘钠：

萘钠是一种常用的去保护方法，适用于多种条件下的处理。

使用Na/NH3（液）：

虽然操作较为麻烦，并且可能引起肽键断裂和肽链破坏，但Na/NH3（液）也是一种有效的脱保护方法。

使用Li/NH3（液）：

Li/NH3（液）是另一种有效的去保护方法，生成的副产物在碱性条件下可以用水洗除去。

使用HBr/苯酚：

HBr/苯酚是一种比较好的去保护方法。

使用Mg/MeOH：

Mg/MeOH也是一种有效的去保护方法。

使用硫醇/碱或苯硫酚：

在温和条件下，硫醇或苯硫酚可以脱除Tos基。

使用THF、DMSO、水和KOH的混合溶剂：

这种方法对吲哚或吡咯N的Tos脱除最有效，且产率很高。

建议根据具体的化学反应体系和需求选择合适的脱保护方法。在操作过程中，应注意保护肽键的完整性，避免不必要的破坏。